Výzkumníci z laboratoří IBM oznámili, že se jim podařilo prolomit dodnes nedotčenou hranici. Dokázali totiž vyrobit čip pomocí optické litografie o šířce 29,9 nm (nanometr je miliontina milimetru). Má tak zhruba třetinovou velikost proti současným čipům, jenž jsou vyráběny technologií zvládající 90 nm.

Podle odborníků z IBM skrývá optická litografie daleko větší potenciál, než se původně myslelo. Dříve se totiž předpokládalo, že limit pro výrobu čipů je na hranici 32 nm.

"Náš cíl je dostat optickou litografii tak daleko, jak je to jen možné, takže výrobci nemusejí přecházet na dražší alternativy, pokud to není absolutně nezbytné", řekl Robert D. Allen, manažer litografických materiálů v IBM Almaden Research Centre.

Vědci odhadují, že na základě dosažených výsledků mají výrobci zhruba ještě sedm let na radikální změnu čipů pro zachování vývoje v rychlosti. Momentálně Intel rozjel výrobu 65 nm čipů, která se dostane na trhy ještě během tohoto roku.